中国科协主办
普通用户
科普员
科普号
管理员
登录
业务中心
管理中心
资源中心
帮助
客服
搜索
首页
头条
健康
辟谣
前沿科技
应急科普
科教
博物
军事
科幻
人物
专区
天文地理
生活百科
智农
社区
版权归原作者所有,如有侵权,请联系我们
《大话集成电路24》刻蚀技术:光刻之后,芯片生产的第二道技术坎
上传时间:2022-06-21 10:23
科学声音
原创
科学声音
普及科学知识,传播科学精神
98
收藏
视频简介:
在集成电路的制造过程中,一共有三个同等重要的环节,分别是光刻、刻蚀和薄膜淀积。相比于光刻,刻蚀的知名度就要小了很多,但它也是一道技术含量很高的加工步骤,不如来一起了解一下吧。
分享到:
评论
科普61bad6164fe11
儒生级
奋斗下去终会掌握的。
2022-06-21
吾爱科学
庶吉士级
厉害
2022-06-21
大树:高志峰
贡士级
好好用吗
2022-06-21
扫码下载APP
扫码下载科普中国APP
开启您的智慧生活
关闭
关于我们
联系我们
招贤纳士
法律声明
网站地图
京公网安备11010202008423号
京ICP备16016202号-1