脱溶

　　脱溶1是指在过饱和固溶体中，呈溶质原子发生偏聚，并沉淀析出新相的现象。可把脱溶分为平衡脱溶和时效脱溶；按脱溶的地区分布和脱溶过程，可把脱溶分为连续脱溶和不连续脱溶。

　　按造成脱溶的分解条件

　　可把脱溶分为平衡脱溶和时效脱溶；按脱溶的地区分布和脱溶过程，可把脱溶分为连续脱溶和不连续脱溶。

　　平衡脱溶指缓慢冷却过程中合金按相图发生转变，从固溶体中不断析出第二相。 β─→β+α（或β+γ），或α─→α+γ,这种转变也称为单相脱溶，指母相中析出富溶质原子的新相（沉淀相），母相保持原来的晶型，但其中溶质原子浓度则是饱和状态。

　　时效脱溶

　　简称时效，或称脱溶分解2。固溶体自高温急冷到固态溶解度曲线以下，由于冷却速度快，沉淀产物来不及析出，形成了过饱和固溶体，然后在较低的温度下这种不稳定的过饱和固溶体随着时间变化发生脱溶分解。随时效温度和固溶体合金成分的不同，时效脱溶过程中会析出各种弥散分布的亚稳定沉淀相，这种亚稳定沉淀相与母相共格或局部共格，使合金强化。时效脱溶是一种金属强化的方法，所以也称时效强化或沉淀硬化。

　　连续脱溶或称连续沉淀

　　是指单相脱溶过程在母相中各处同时进行，这通常是在过饱和程度比较低的情况下发生，或者在沉淀相与母相错配度比较大的合金中出现。脱溶分解时母相成分连续地由过饱和状态向饱和状态转变，母相的晶粒外形和取向均不改变的一种脱溶分解1。

　　不连续脱溶又称饱和脱溶

　　指过饱和固溶体α'分解时，先在母相晶界形核，析出稳定的沉淀相γ，同时在沉淀相两侧形成接近平衡浓度的α相,以层片的形式向晶界一侧生长形成胞状产物,此时过饱和α'同饱和的α之间有明显相界。这被认为是由于沉淀物在晶界形核后，以层片状相间分布向一个非共格关系的晶粒内快速生长的结果。所以已分解的部分与未分解的基体有明确分界，界面上溶质浓度也呈突然变化。不连续脱溶通常在高度过饱和的固溶体中出现，而过饱和程度低的固溶体则倾向于连续脱溶。但在同一合金中，有可能同时产生连续脱溶和不连续脱溶,如Al-18Ag合金；但二者的沉淀相不同，连续脱溶的沉淀相是亚稳过渡相γ',而不连续脱溶的沉淀相是稳定的γ相。

　　脱溶物

　　过饱和固溶体中形成的溶质原子偏聚区(如：铝铜合金中的GP区)或化学成分及晶体结构与之不同的析出的相(如：铝铜合金人工时效时形成的CuAl2)。

　　脱溶序列

　　脱溶相按一定的温度高低与时间先后的顺序依次形核长大。

　　本词条内容贡献者为:

　　石季英 - 副教授 - 天津大学